窒化アルミ(ALN)とは
窒化アルミセラミック(ALN)は、熱伝導性･熱放射性（放熱）、耐熱衝撃性、電気絶縁性に優れ、シリコンウェハに最適な熱膨張をもつ、特性のバランスの良い材料です。また、優れた熱伝導率や高ハロゲンプラズマ耐性、シリコンに近い熱膨張率などの特性を生かし、放熱性を要する部品や半導体製造装置の部品など多くの用途に用いられています。
用途
- 半導体/FPD/液晶製造装置用部品
- ウェハ加熱用ヒーター/静電チャック
- パワーデバイス、LD、LED用ヒートシンク
- 放熱基板/LEDパッケージ用基板/半導体用基板/薄膜回路基板/パワー抵抗器用基板
- フィラー(半導体封止用樹脂/放熱シート/放熱基板)